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Silicon(IV) chloride, 99.998% (metals basis)
Cas-n
10026-04-7
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L040148AE
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Aluminum calcium isopropoxide, 99.8% (metals basis), 10% w/v in isopropanol
Cas-n
23275-27-6
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L036594AE
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Acetic acid, glacial, 99.9+% (metals basis)
Cas-n
64-19-7
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L039745AE
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Benzyltrimethylammonium hydroxide, 40% w/w aq. soln.
Cas-n
100-85-6
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L047189AE
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Ruthenium, plasma standard solution, Specpure|r, Ru 10,000^mg/ml
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L035773AE
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Hafnium, plasma standard solution, Specpure|r, Hf 1000^mg/ml
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L013843AE
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Hexamethyldisiloxane, 98+%
Cas-n
107-46-0
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LA11848AE
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Sulfur in Isooctane standard solution, Specpure|r, 400^mg/g (0.0400%)
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L041322AE
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Sulfur in Isooctane standard solution, Specpure|r, 750^mg/g (0.0750%)
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L045323AE
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Rhodium, AAS standard solution, Specpure|r, Rh 1000^mg/ml
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L088090AE
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Sulfur in Isooctane standard solution, Specpurer, 75mg/g (0.0075%)
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Osmium, plasma standard solution, Specpure|r, Os 1000^mg/ml
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Indium(III) isopropoxide, 99+% (metals basis), 5% w/v isopropanol
Cas-n
38218-24-5
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L044562AE
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Chromium, plasma standard solution, Specpure|r, Cr 1000^mg/ml
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L038728AE
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Palladium, AAS standard solution, Specpure|r, Pd 1000^mg/ml
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L088085AE
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Tellurium, plasma standard solution, Specpure|r, Te 1000^mg/ml
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Hafnium, AAS standard solution, Specpure|r, Hf 1000^mg/ml
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Methyl vinyl ketone, tech. 90%, stab.
Cas-n
78-94-4
Prodotto
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LA11910AE
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Tetra-n-butylammonium hydroxide, 1.0M aq. soln.
Cas-n
2052-49-5
Prodotto
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L046315AE
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Ruthenium, AAS standard solution, Specpure|r, Ru 1000^mg/ml
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